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세부사양서 참조
전력반도체용 Ga₂O₃, SiC 등의 실험 분말 사용 후 장비 내부에 잔류하는 미세분진을 제거하기 위함. 일반 청소기로 포집하기 어려운 미세입자를 효과적으로 제거하기 위해 HEPA 필터가 적용된 산업용 청소기를 사용하고자 함
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